臺積電首次公布2nm制程指標(biāo)。在AI領(lǐng)域,NVIDIA表現(xiàn)出色;而在晶圓制造領(lǐng)域,臺積電同樣取得了顯著成功。特別是在5nm和3nm制程時代,臺積電幾乎獨占鰲頭,其先進制程的產(chǎn)能飽滿,營收持續(xù)增長。接下來,臺積電將重點發(fā)展2nm制程技術(shù),預(yù)計在性能和功耗方面都將有顯著提升。
在IEEE國際電子設(shè)備會議上,臺積電展示了其在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的最新進展,其中2nm制程的性能和技術(shù)指標(biāo)備受關(guān)注。與現(xiàn)有的3nm制程相比,2nm制程在相同功耗下性能可提升15%,而在同等性能下,功耗則可降低24%-35%。這一性能參數(shù)對于未來的高性能AI芯片尤為重要,因為更低的功耗意味著更佳的能耗表現(xiàn)。
FinFET晶體管在過去非常成功,但在更先進的制程上已顯不足。因此,臺積電轉(zhuǎn)向了新的晶體管技術(shù),這種新技術(shù)在低電壓下可以實現(xiàn)75%的能耗下降,并且晶體管密度也有所提高。
除了2nm制程,臺積電還開始了1nm以下晶體管的研發(fā)工作,盡管目前仍處于早期階段,距離量產(chǎn)和商用還有很長的路要走。隨著2nm甚至1nm制程的逐步落地,未來芯片的成本可能會進一步上升,這也將導(dǎo)致終端產(chǎn)品價格的上漲。
臺積電最新公布的第二季度財報顯示,其凈利潤同比增長36%,達到新臺幣2,478.5億元,約為76.1億美元,收入亦顯著增長40%,達新臺幣6,735.1億元,其中6月份收入增幅為33%
2024-08-14 11:30:10臺積電核準(zhǔn)近300億美元資本預(yù)算