8月13日,國內(nèi)半導體設(shè)備龍頭北京屹唐半導體科技股份有限公司發(fā)布公告稱,公司認為應(yīng)用材料公司非法獲取并使用了公司的等離子體源及晶圓表面處理相關(guān)的核心技術(shù)秘密,在中國境內(nèi)以申請專利的方式披露了該技術(shù)秘密,并將該專利申請權(quán)據(jù)為己有,違反了《中華人民共和國反不正當競爭法》的規(guī)定,構(gòu)成侵犯商業(yè)秘密的違法行為。因此,屹唐股份向北京知識產(chǎn)權(quán)法院提起訴訟,要求賠償人民幣9999萬元。
截至公告發(fā)布時,該案件已立案但尚未開庭審理。公司表示,本次訴訟不會對公司經(jīng)營產(chǎn)生重大不利影響,也不會影響正常生產(chǎn)經(jīng)營,最終實際影響取決于法院生效判決結(jié)果。
屹唐股份利用高濃度、穩(wěn)定均勻的等離子體進行晶圓表面處理是其關(guān)鍵技術(shù)之一,廣泛應(yīng)用于干法去膠、干法蝕刻、表面處理及改性等半導體加工設(shè)備中。公司在該領(lǐng)域具備領(lǐng)先的原創(chuàng)性技術(shù)能力,并擁有相關(guān)技術(shù)秘密。
應(yīng)用材料公司招聘了曾在原告全資子公司Mattson Technology, Inc.工作的兩名員工。這兩名員工了解關(guān)于等離子體的產(chǎn)生和處理方法的核心技術(shù),熟悉和掌握相關(guān)設(shè)備結(jié)構(gòu)以及技術(shù)工藝。在MTI公司任職期間,他們簽署了保密協(xié)議,對包括涉案技術(shù)秘密在內(nèi)的技術(shù)信息承擔嚴格的保密義務(wù)。證據(jù)顯示,應(yīng)用材料公司招聘這兩名員工后,向中國國家知識產(chǎn)權(quán)局提交了一份發(fā)明專利申請,其中主要發(fā)明人即為這兩名員工,該專利申請披露了屹唐股份與MTI公司共同所有的涉案技術(shù)秘密。
屹唐股份指出,被告非法獲取和使用原告的技術(shù)秘密,并在中國境內(nèi)以申請專利的方式披露了該技術(shù)秘密,將該專利申請權(quán)據(jù)為己有,違反了《中華人民共和國反不正當競爭法》的規(guī)定,構(gòu)成侵犯商業(yè)秘密的行為,對原告的知識產(chǎn)權(quán)和經(jīng)濟利益造成嚴重損害。此外,被告還涉嫌將使用涉案技術(shù)秘密的產(chǎn)品向中國境內(nèi)的客戶進行推廣銷售,進一步侵害了原告的商業(yè)秘密權(quán)益。
8月13日,中國芯片設(shè)備企業(yè)北京屹唐半導體科技股份有限公司發(fā)布公告稱,已起訴美國半導體設(shè)備巨頭應(yīng)用材料公司涉嫌侵犯商業(yè)機密,并索賠9999萬元
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