臺積電決定在2nm工藝生產(chǎn)線上放棄使用中國設(shè)備,背后的原因錯綜復(fù)雜。美國為了限制中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,提出了一項法案,規(guī)定接受聯(lián)邦資金的芯片制造商不得使用中國設(shè)備。這項政策直接影響了臺積電在亞利桑那州1650億美元的投資計劃。為了獲得美國政府的補貼,臺積電不得不遵循這一新規(guī)則。因此,從2025年4月開始,臺積電將在其2nm生產(chǎn)線中全面停用來自中微公司和Mattson Technology等中國供應(yīng)商的工具。特別是在蝕刻和薄膜沉積這些關(guān)鍵環(huán)節(jié),迅速完成了設(shè)備替換。
除了政策壓力外,技術(shù)因素也是重要原因。2nm工藝是目前最先進的技術(shù)之一,對設(shè)備精度要求極高。盡管中微公司的3nm刻蝕機已經(jīng)通過了臺積電的驗證,但在更先進的2nm工藝所需的原子層蝕刻(ALE)技術(shù)方面,仍落后于應(yīng)用材料和泛林集團等美國企業(yè)。因此,為了確保2nm芯片能夠順利量產(chǎn),臺積電選擇與這些美國公司合作。
此外,臺積電還采取了“雙中心”布局策略,在臺灣地區(qū)和美國同時建設(shè)2nm產(chǎn)能。臺灣的新竹和高雄工廠預(yù)計在2025年下半年開始量產(chǎn),月產(chǎn)能可達(dá)6萬片晶圓,并采用美日歐供應(yīng)商提供的頂級設(shè)備。與此同時,位于美國亞利桑那州的工廠計劃于2026年投產(chǎn),產(chǎn)能占比為30%,同樣不使用中國設(shè)備,并且還配套建設(shè)了先進封裝廠,實現(xiàn)全流程本土化。這種布局不僅有助于規(guī)避地緣政治風(fēng)險,還能利用美國的能源補貼來降低高耗能成本。
對于中國大陸的半導(dǎo)體設(shè)備廠商而言,這無疑是一個巨大的挑戰(zhàn)。然而,這也提供了突破技術(shù)壁壘的機會。如果能夠成功開發(fā)出符合2nm工藝要求的設(shè)備,未來在國際市場上將占據(jù)重要位置。
據(jù)海外媒體報道,臺積電2nm芯片研發(fā)進展順利,正按計劃穩(wěn)步推進,有望在2nm工藝節(jié)點競爭中搶占先機。AMD更是率先完成流片,領(lǐng)跑蘋果與英特爾
2025-05-07 08:14:02臺積電2nm工藝步入正軌