中國光刻機走向產(chǎn)線需跨信任壁壘技術(shù)與生態(tài)的雙重挑戰(zhàn)(3)

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2025-10-31 16:41:22 反做空一線

除此之外，杭州璞璘科技通過納米壓印光刻（NIL）這一替代技術(shù)也實現(xiàn)了國內(nèi)技術(shù)的新突破。其于2025年8月交付了首臺PL-SR系列噴墨步進(jìn)式納米壓印設(shè)備，成為我國首臺半導(dǎo)體級步進(jìn)式納米壓印光刻系統(tǒng)，可實現(xiàn)10nm級制程加工。由于其不依賴于昂貴的激光光源，壓印技術(shù)的成本大大低于EUV，同時還可以實現(xiàn)更高的生產(chǎn)效率。納米壓印光刻機為芯片制造廠商提供了一條低成本的替代路徑。

ASML實施“維修封鎖”后，光刻機配件及常規(guī)保養(yǎng)需逐案審批，國內(nèi)晶圓廠面臨設(shè)備停擺即產(chǎn)能流失的困境。在此背景下，一批具備自主技術(shù)能力的維修企業(yè)迅速崛起，通過技術(shù)攻關(guān)與模式創(chuàng)新，逐步破解“只賣不修”的行業(yè)困局，形成了覆蓋設(shè)備翻新、故障維修、備件供應(yīng)的全鏈條服務(wù)體系。國內(nèi)目前已形成以佳鼎半導(dǎo)體、東方嘉盛、上海圖雙精密等企業(yè)為核心的自主維修力量，其技術(shù)能力已通過實際工程案例驗證，可不依賴荷蘭技術(shù)與配件完成主流光刻機的維修維護。

盡管近年來國產(chǎn)光刻機產(chǎn)業(yè)取得顯著進(jìn)展，但在技術(shù)攻堅、產(chǎn)能建設(shè)、生態(tài)完善等方面仍面臨諸多挑戰(zhàn)。荷蘭ASML在全球光刻機領(lǐng)域的壟斷地位，本質(zhì)是“技術(shù)壁壘+生態(tài)綁定+地緣妥協(xié)”的三重疊加。作為全球唯一能量產(chǎn)極紫外（EUV）光刻機的企業(yè)，其設(shè)備包含10萬余個零件，需全球超500家供應(yīng)商協(xié)同制造，研發(fā)投入常年占營收15%以上，這種“全球技術(shù)整合”能力形成了難以逾越的護城河。

美國主導(dǎo)的技術(shù)封鎖已從尖端領(lǐng)域蔓延至成熟制程，給我國廠商帶來全鏈條沖擊。2025年新規(guī)將限制范圍擴展至3nm以下技術(shù)、量子計算設(shè)備及先進(jìn)材料制造設(shè)備，實施“推定拒絕”審批原則，連澳門地區(qū)也被納入管制。更嚴(yán)峻的是，2024年荷蘭政府撤銷部分已頒發(fā)的出口許可證，涉及分辨率90納米及以下的DUV設(shè)備，直接導(dǎo)致中芯國際等企業(yè)產(chǎn)能擴張計劃延遲。

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