2024年12月9日,國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公開了一項(xiàng)由ASML控股股份有限公司申請(qǐng)的專利,名為“光刻設(shè)備、襯底臺(tái)和不均勻涂層方法”,公開號(hào)為CN 119087748 A,申請(qǐng)日期為2020年4月。
該專利描述了一種光刻設(shè)備,包括照射系統(tǒng)、支撐件、投影系統(tǒng)以及襯底臺(tái)。襯底臺(tái)包含一個(gè)臺(tái)座,其表面覆蓋有一層不均勻厚度的涂層。這種涂層的設(shè)計(jì)使得臺(tái)座相對(duì)于名義平坦度的偏轉(zhuǎn)成為由涂層引起的應(yīng)力函數(shù)。涂層的橫截面輪廓根據(jù)應(yīng)力和不均勻厚度進(jìn)行調(diào)整,確保涂層表面保持實(shí)質(zhì)上的平坦,并在襯底臺(tái)支撐襯底時(shí)與之接觸。