該研究提供了一種融合高吸收元素Te、主鏈斷裂機(jī)制與材料均一性的光刻膠設(shè)計(jì)路徑,有望推動(dòng)下一代EUV光刻材料的發(fā)展,助力先進(jìn)半導(dǎo)體工藝技術(shù)革新。相關(guān)成果發(fā)表于《科學(xué)進(jìn)展》期刊。清華大學(xué)化學(xué)系2024級(jí)博士生周睿豪為論文第一作者,許華平教授為通訊作者,馬克·奈瑟與譚以正為共同通訊作者。該研究得到國家自然科學(xué)基金重點(diǎn)項(xiàng)目的資助支持。
目前,國際光刻膠巨頭憑借長期的技術(shù)積累和市場優(yōu)勢,在高端光刻膠領(lǐng)域占據(jù)主導(dǎo)地位。這些企業(yè)不僅擁有先進(jìn)的生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備,還具備強(qiáng)大的研發(fā)能力和豐富的市場經(jīng)驗(yàn)。例如,日本JSR在光刻膠領(lǐng)域擁有超過50年的研發(fā)和生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),其產(chǎn)品涵蓋了從g線、i線到KrF、ArF、EUV等全系列光刻膠。JSR每年投入大量資金用于研發(fā),不斷推出新產(chǎn)品,以滿足市場對高端光刻膠的需求。此外,JSR還與全球主要的芯片制造企業(yè)建立了長期穩(wěn)定的合作關(guān)系,進(jìn)一步鞏固了其市場地位。其他國際巨頭如東京應(yīng)化、信越化學(xué)、杜邦等也各自在光刻膠領(lǐng)域擁有獨(dú)特的優(yōu)勢,形成了強(qiáng)大的競爭壁壘。清華大學(xué)的最新突破為國產(chǎn)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展打開新的大門,有望打破國際巨頭在高端光刻膠領(lǐng)域的壟斷,為我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自主可控發(fā)展提供有力支撐。