手機(jī)2nm芯片時(shí)代或來(lái)了 蘋(píng)果領(lǐng)銜采用!2026年,手機(jī)行業(yè)將迎來(lái)2nm芯片時(shí)代。蘋(píng)果計(jì)劃推出的A20和A20 Pro都將采用臺(tái)積電的2nm工藝制造。
臺(tái)積電的2nm工藝升級(jí)為全新的GAA架構(gòu),相比之前的3nm FinFET工藝,GAA架構(gòu)在電流控制上更為精準(zhǔn),能大幅降低漏電現(xiàn)象。這一改進(jìn)使得2nm工藝在相同功耗下可以實(shí)現(xiàn)10%-15%的性能提升,在相同性能水平下,功耗則可降低25%-30%。這些優(yōu)勢(shì)吸引了大量客戶的訂單。
臺(tái)積電預(yù)計(jì)在今年底啟動(dòng)2nm工藝的量產(chǎn)工作,目前兩座工廠的2nm產(chǎn)能已被預(yù)訂完畢。為了滿足客戶需求,臺(tái)積電需要額外投資286億美元建設(shè)新工廠。多家知名企業(yè)如蘋(píng)果、高通、聯(lián)發(fā)科、AMD等都是臺(tái)積電2nm工藝的客戶。蘋(píng)果占據(jù)了超過(guò)半數(shù)的初始產(chǎn)能,其余產(chǎn)能由其他客戶分配。按照計(jì)劃,臺(tái)積電將在2026年底前將月產(chǎn)量提升至10萬(wàn)片。
三星也在今年早些時(shí)候開(kāi)始了2nm GAA工藝的量產(chǎn),但其性能和能效相比3nm并沒(méi)有顯著提升。這可能與良率未達(dá)到最佳水平有關(guān),相關(guān)數(shù)據(jù)可能會(huì)隨著時(shí)間逐漸改善。