中國芯片設(shè)備公司起訴美企竊密 核心技術(shù)保衛(wèi)戰(zhàn)！差一萬元就是一億元，這個看似刻意的索賠金額背后，是一場關(guān)乎中國半導(dǎo)體核心技術(shù)自主權(quán)的保衛(wèi)戰(zhàn)。

北京知識產(chǎn)權(quán)法院立案大廳，一份案號為（2025）京73民初908號的卷宗被正式錄入系統(tǒng)。原告是市值676億的中國半導(dǎo)體設(shè)備新銳屹唐股份，被告則是美國半導(dǎo)體設(shè)備巨頭應(yīng)用材料公司。2025年8月13日，屹唐股份正式向北京知識產(chǎn)權(quán)法院提起訴訟，指控應(yīng)用材料公司非法獲取其等離子體源及晶圓表面處理技術(shù)秘密，并擅自在中國申請專利披露，構(gòu)成嚴(yán)重商業(yè)秘密侵權(quán)。屹唐股份要求法院判令被告停止侵權(quán)，并索賠人民幣9999萬元。該案已立案，尚未開庭審理。

涉案技術(shù)涉及半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)——干法去膠與蝕刻設(shè)備。屹唐股份強(qiáng)調(diào)，其技術(shù)通過高濃度、穩(wěn)定均勻的等離子體實現(xiàn)晶圓表面處理，在蝕刻領(lǐng)域具備獨特優(yōu)勢。而蝕刻設(shè)備技術(shù)難度僅次于光刻機(jī)，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈“卡脖子”環(huán)節(jié)之一。據(jù)屹唐股份披露，侵權(quán)根源在于應(yīng)用材料公司挖走兩名曾任職于其全資子公司Mattson Technology（MTI）的員工。這兩名員工在MTI期間簽署了保密協(xié)議，掌握等離子體處理核心技術(shù)，卻在加入應(yīng)用材料后涉嫌將技術(shù)秘密用于專利申請，并在中國境內(nèi)公開披露。更嚴(yán)峻的是，應(yīng)用材料可能已將涉密技術(shù)產(chǎn)品推向中國市場，加劇侵權(quán)行為。值得一提的是此次訴訟并非雙方首次交鋒。2023年6月，應(yīng)用材料曾起訴MTI“系統(tǒng)性竊取商業(yè)機(jī)密”，指控其挖走17名工程師并轉(zhuǎn)移技術(shù)路線圖。此次屹唐股份的反訴，實為對三年前商戰(zhàn)的延續(xù)。

半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，美國企業(yè)構(gòu)筑了難以逾越的技術(shù)護(hù)城河。應(yīng)用材料作為行業(yè)“霸主”，2025財年第一季度營收達(dá)71.7億美元（同比增長7%），市值高達(dá)1512億美元，掌控著全球半導(dǎo)體設(shè)備市場42% 的份額，其2.2萬項專利覆蓋從原子層沉積到等離子刻蝕的關(guān)鍵工藝，在14nm以下先進(jìn)制程設(shè)備市場占據(jù)壟斷地位。半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)呈現(xiàn)高度集中的格局，北美和日本企業(yè)占據(jù)絕對主導(dǎo)地位。在晶圓處理設(shè)備領(lǐng)域，全球前十大供應(yīng)商中美國獨占四席：應(yīng)用材料、Lam Research、KLA和Teradyne，合計市占率超過50%，其中僅應(yīng)用材料一家就占據(jù)24%的全球份額。日本則在特定領(lǐng)域形成差異化優(yōu)勢，東京電子在涂布顯影設(shè)備、Screen在清洗設(shè)備、Advantest在測試設(shè)備領(lǐng)域分別占據(jù)全球前三位置。這種格局背后是數(shù)十年的技術(shù)積累與生態(tài)協(xié)同。美國企業(yè)平均將17.7% 的營收投入研發(fā)，形成“設(shè)計-設(shè)備-制造”的閉環(huán)生態(tài)。應(yīng)用材料2025年研發(fā)投入超18億美元，持續(xù)鞏固其在原子層沉積（ALD）和極紫外（EUV）配套刻蝕技術(shù)的領(lǐng)先地位。相比之下，中國半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)尚未進(jìn)入全球前十，21家主要上市公司總營收僅30億美元，不足全球市場的2.5%。本土設(shè)備在成熟制程（28nm及以上）已實現(xiàn)部分國產(chǎn)化，但在先進(jìn)制程領(lǐng)域仍嚴(yán)重依賴進(jìn)口設(shè)備。