我國還要自研EUV光刻機(jī)嗎筑牢產(chǎn)業(yè)根基

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2026-06-03 20:01:47 快科技

近期，華為提出的韜定律在全網(wǎng)引起廣泛關(guān)注。半導(dǎo)體物理界權(quán)威褚君浩院士在接受采訪時(shí)指出，摩爾定律已觸及發(fā)展天花板，而韜定律為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供了全新的發(fā)展方向。

我國還要自研EUV光刻機(jī)嗎

在韜定律的指導(dǎo)下，華為通過邏輯折疊技術(shù)，在一代產(chǎn)品中實(shí)現(xiàn)了過去需要三年迭代才能達(dá)到的性能提升。根據(jù)公開數(shù)據(jù)，華為僅用一年時(shí)間就將晶體管密度提升了53.5%，芯片特征尺寸對(duì)應(yīng)的平面面積縮小了12.7%。芯片主頻可以達(dá)到4GHz到5GHz，運(yùn)算延遲低至零點(diǎn)幾納秒，顯示出極高的性能水平。

盡管如此，韜定律是否能成為行業(yè)公認(rèn)的通用準(zhǔn)則，還需長時(shí)間的產(chǎn)業(yè)實(shí)踐和驗(yàn)證。目前相關(guān)落地?cái)?shù)據(jù)尚不充分，未來隨著更多企業(yè)跟進(jìn)并積累實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)，才能最終提煉出適配新路徑的產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)律。

關(guān)于中國是否應(yīng)繼續(xù)投入資源發(fā)展EUV光刻機(jī)的問題，褚君浩表示，掌握自研EUV技術(shù)是為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)打下堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)的重要一步。結(jié)合韜定律的新路徑，兩者將產(chǎn)生顯著的疊加效應(yīng)，不僅是一次技術(shù)躍遷，更是一次底層范式創(chuàng)新，可能重新定義全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展方向。

當(dāng)前，國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的整體結(jié)構(gòu)已經(jīng)相當(dāng)完整，核心環(huán)節(jié)對(duì)外依存度逐漸降低，上下游本土產(chǎn)業(yè)鏈的協(xié)同聯(lián)動(dòng)也已形成良好基礎(chǔ)。未來，隨著科學(xué)技術(shù)的快速進(jìn)步，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的最優(yōu)形態(tài)將是各國各企業(yè)發(fā)揮自身技術(shù)優(yōu)勢(shì)，共同推進(jìn)整個(gè)行業(yè)向前發(fā)展。

(責(zé)任編輯：0764)

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