臺(tái)積電泄密案又揪出“內(nèi)鬼” 更多共犯曝光!臺(tái)灣檢方偵辦臺(tái)積電2納米核心關(guān)鍵技術(shù)竊密案,發(fā)現(xiàn)前工程師陳力銘跳槽至日本東京威力科創(chuàng)公司后,為獲取“蝕刻機(jī)臺(tái)”量產(chǎn)測(cè)試數(shù)據(jù),買(mǎi)通時(shí)任工程師吳秉駿、戈一平竊取參數(shù)配方。案件于2025年起訴三人。此外,在調(diào)查過(guò)程中,檢方還發(fā)現(xiàn)另一名陳姓工程師涉嫌竊取核心技術(shù)給陳力銘,東京威力科創(chuàng)盧姓員工也涉嫌湮滅證據(jù),因此對(duì)三人及東京威力科創(chuàng)追加起訴。
根據(jù)起訴書(shū),陳力銘在偵查中承認(rèn)了犯罪行為,并供出了其他共犯,幫助檢方順利查獲相關(guān)嫌疑人。因此,檢方請(qǐng)求判處其七年徒刑。而另一名陳姓共犯因態(tài)度欠佳,檢方請(qǐng)求判處其八年八個(gè)月有期徒刑。
盧姓員工在得知陳力銘被臺(tái)積電發(fā)現(xiàn)后,刪除了陳力銘上傳的相關(guān)文件,妨礙了刑事案件的調(diào)查。由于他在事后否認(rèn)犯罪行為,檢方請(qǐng)求判處其一年徒刑。東京威力科創(chuàng)公司在本案查證過(guò)程中提供了相關(guān)證據(jù),有助于厘清案情,因此被處以2500萬(wàn)元新臺(tái)幣的罰金。
檢方在調(diào)查期間還發(fā)現(xiàn),該公司云端硬盤(pán)內(nèi)仍存有臺(tái)積電的核心關(guān)鍵技術(shù)資料,即“14納米以下制程技術(shù)及其關(guān)鍵氣體、化學(xué)品及設(shè)備技術(shù)”的營(yíng)業(yè)秘密資料,經(jīng)清查確認(rèn)是陳姓員工所竊取。臺(tái)積電泄密案又揪出“內(nèi)鬼” 更多共犯曝光!